第九届进博会中国馆展出上海微电子（SMEE）新一代前道干式扫描投影光刻机 SSC800、SSB800 剖视模型，代表国内成熟制程前道光刻装备自主化的阶段性成果，这套平台分为 KrF 光源的 SSC800 和 I-line 光源的 SSB800，核心光学、双工件台、对准传感、物料传输等子系统实现全栈自主，关键零部件国产化率突破 90%，设备已经定型量产、在国内头部产线长期跑量，主要面向 110nm 及以上成熟制程芯片制造，服务存储、功率半导体、模拟芯片、MEMS、Micro LED 等赛道。模型做了透明剖视处理，可以直观看到内部光路、工件台和机电结构；官方披露成像指标对标国际同类型干式光刻机，套刻精度、产能持续追赶标杆，累计流片超千万片，设备有效运行率高于 92%，证明国产光刻装备从样机阶段进入稳定规模化交付阶段。需要注意的是，这两款属于干式光刻机，不是 EUV 浸没式光刻机，主攻成熟制程，成熟制程是国内半导体产能底盘，对供应链安全意义重大。
两款机型核心信息汇总表
| 机型 | 光源类型 | 适配制程 | 主要应用方向 | 性能定位 |
|---|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF | 110nm 及以上 | DRAM/NAND 存储、微处理器、Micro LED | 整体性能进入国际第一梯队，量产主力机型 |
| SSB800 | I-line | 280nm 及以上 | 功率器件、模拟 IC、MEMS 传感器 | 适配高压、特色工艺产线，需求量大 |
平台核心自研模块说明
- 自研大 NA 国产物镜与照明系统：决定曝光分辨率、均匀度，是光刻机最核心光学组件
- 高速双工件台 + 掩模台：一片晶圆曝光，另一片同步预对准，保障产线产能
- 高精度对准、调平传感系统：控制套刻误差，多层电路叠合的精度基础
- 全自动物料传输系统：晶圆自动上下片，匹配 Fab 无尘产线自动化流程
产业关注点核对清单
- 定位区分：SSC800、SSB800 为干式成熟制程机型，不覆盖 EUV 先进制程路线，不要混淆概念
- 国产化指标：关键零部件国产化率超 90%，不等于 100% 全零件国产，剩余部分仍在持续替代
- 指标含义：设备有效运行率 > 92%，是产线稳定稼动的关键指标，代表可靠性得到工厂验证
- 价值逻辑：成熟制程芯片在汽车电子、工控、电源、存储领域需求巨大，保障成熟制程光刻供给可以稳住产业链底盘
- 后续路线：该平台是标准化基础平台，持续迭代优化套刻精度、产能，同时支撑下一代光刻技术预研
【相关 FAQ】
问题 1：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，SSC800 和 SSB800 是什么光源？
回答 1：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，SSC800 是 KrF 光源，SSB800 为 I-line 光源，都属于干式扫描投影光刻机。
问题 2：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，这款是 EUV 光刻机吗？
回答 2：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，SSC800、SSB800 属于干式光刻机，并非 EUV 浸没式光刻机，面向成熟制程。
问题 3：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，现在产线运行情况怎么样？
回答 3：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，设备已经量产交付，累计流片超千万片，设备有效运行率超 92%，在国内存储、功率半导体产线稳定使用。
问题 4：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，国产化水平如何？
回答 4：我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相，该平台关键零部件国产化率突破 90%，光学、工件台、对准等核心子系统自主可控。
【参考资料】
[2026-11-08]（重大突破！我国新一代光刻机模型亮相进博会）中国青年网
[2026-11-09]（从 “填补空白” 到 “稳定供给”）新浪财经
[2026-11-09]（SMEE displays next-generation dry lithography platform at CIIE）Global Times
[2026-11-09]（上海微电子新一代前道光刻机平台模型亮相进博会）太平洋科技
【免责声明】
本文为上海微电子光刻机进博会展品资讯整理，技术迭代、产线交付进度以企业官方公告为准；干式成熟制程光刻机和 EUV 光刻机技术路线、应用场景差异很大，本文信息不代表先进制程光刻机研发进展，不构成行业投资决策建议。
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希望本篇文章《国产前道光刻装备自主化新进展，上海微电子新一代干式光刻机模型亮相进博会》能对你有所帮助！
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